NAIST、高性能なn型ポリマー半導体を柔軟な薄膜として作製することに成功

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奈良先端科学技術大学院大学(NAIST)は12月8日、次世代の柔軟で丈夫な超フレキシブル回路作製のため、これまで実用レベルの性能が実現されていなかったポリマー半導体のnチャネル型FETを、基板上で溶液を直接塗布せずに転写する「配向フローティング薄膜(UFTM)」という新技術を用いて作製することに成功したと発表した。