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「Photomask Japan 2025 Technical Exhibition 第31回ホトマスク技術展示会」への出展について

2025年04月07日11時45分 / 提供:PR TIMES

ニューフレアテクノロジー(NFT)は、4月17, 18日にパシフィコ横浜アネックスホール(神奈川県横浜市)で開催される「Photomask Japan 2025 Technical Exhibition 第31回ホトマスク技術展示会」に出展します。

本展示会は、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術に関する国際シンポジウム「Photomask Japan 2025」に併設開催されるものです。

今回、NFTは、2nmノード世代の半導体製造用マスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM(TM)-3000」、最先端フォトマスクの欠陥を高精度に検査するマスク検査装置「NPI-8000」および各製品のロードマップを紹介します。

NFTは、電子ビームマスク描画装置のベースとなる電子技術とマスク検査装置のベースとなる光学技術の両技術を持っており、今後も、技術的シナジーを発揮して最先端の技術開発に邁進していきます。

【出展概要】
[表: https://prtimes.jp/data/corp/154737/table/6_1_57ca7e83ef89c8dc1865cf35c83f5438.jpg ]
関連サイト
Photomask Japan 2025 | Technical Exhibition

以上
[画像: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/154737/6/154737-6-32fedb390fa8fc7d12bd9af1c58c655e-2132x697.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]

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