【東芝】高低差がナノスケールの極微小な欠陥をワンショットで3D形状に可視化する光学検査技術を開発　－独自の光学機器とアルゴリズムで、半導体製造における極微小な欠陥を1枚の撮像画像から瞬時に識別－

2025年02月26日11時18分 / 提供：Digital PR Platform

2025年2月26日
株式会社 東芝
東芝情報システム株式会社

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