8月26日(火) AndTech「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUV、レジスト材料開発、光源システム応用研究、露光用フォトマスクブランクス～」WEBオンラインZoomセミナーを開催予定

兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏 、関西大学 工藤 宏人 氏、九州大学 溝口 計 氏、AGC株式会社 宇野 俊之 氏 にご講演をいただきます。

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株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、EUVリソグラフィの第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ最新技術 ～Beyond EUVへの将来展望、基礎とレジスト材料開発例、EUV光源システムおよび応用研究新動向、EUV露光用フォトマスクブランクスの開発と量産化～」講座を開講いたします。