3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発

2023年12月12日11時45分 / 提供：PR TIMES

回路線幅の微細化が進む半導体市場のニーズに対応

リリースカテゴリのその他の記事

• AIアプリプラットフォーム『Taskhub』アーリーアクセス版、4月25日にリリース予定
• Nordic SemiconductorのnRF9151セルラーIoTモジュールが、IIJのSoftSIM機能を強化
• バクラク、ホスピタリティ産業に特化した見本市「関東ホテル・旅館業界IT&リノベーション展示商談会」に出展（4/23・ヴィラフォンテーヌプレミア羽田空港）
• 【イベントレポート】「あいちデジタルアイランドプロジェクト」の報告会セミナーにて、当社 COO の鈴木が登壇しました。
• スタートアップワールドカップ 2025 九州予選：ステージに立つファイナリスト１１社、遂に決定！