imecは、2023年2月26日~3月2日に米カリフォルニア州サンノゼにて開催される半導体露光技術の国際学会「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2023」にて、70件の発表を行うことを予定している。そのうち42件がimecの研究者が筆頭著者となっており、28件が共著論文となっている。
それらの中で目立つのが、最先端ロジックで現在主流のFinFETから3世代先の究極のCMOS構造と言われるCFET構造に関する発表である。imecの最新のロードマップによれば、CFETは2032年にA5(=5Å)プロセスから実用化する予定となっている。