電子ビームリソグラフィー(EBL)は、集束した電子線を用いてレジスト上にナノスケールの微細パターンを直接描画する微細加工技術である。光リソグラフィーを超える高解像度を実現でき、半導体デバイス、量子デバイス、フォトニクス素子、研究用ナノ構造の製作に広く用いられる。マスク工程を必要とせず、設計データを直接描画できる点が特長であり、研究開発や少量多品種生産において極めて高い柔軟性を持つ。
QY Research株式会社(東京都中央区)は、「電子ビームリソグラフィー(EBL)―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026~2032」の最新レポートを発表しました。