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KLA、先端半導体の歩留まり向上を可能とするウェハ検査装置2機種を発表

2020年12月18日13時52分 / 提供:マイナビニュース

米国の半導体製造装置メーカー大手KLAは、最先端プロセスを採用したロジック半導体ならびに半導体メモリの製造歩留まりを向上させることを可能とする検査装置として、パターン無しシリコンウェハ表面欠陥検査装置「Surfscan SP7XP」と回路パターン付きウェハ形状計測システム「PWG5」を発表した。

Surfscan SP7XP

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