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UCPSS 2018 第3回 次世代デバイス向け構造/材料用エッチング/洗浄/乾燥に脚光

2018年09月21日07時23分 / 提供:マイナビニュース

世界中から200名を超える洗浄・クリーン化技術分野の技術者や研究者がベルギーに集まって3日間にわたって開催されたUCPSS2018の一般講演で、日本の企業や大学からの発表が9件行われた)。ただし、このうち3件は、研究協業先のベルギーimecにおいて行われたものである。

今回のシンポジウムでは、以下のような微細化でパターン倒壊防止の洗浄・乾燥、GAA(ゲートオールアラウンド)トランジスタ構造形成のための積層ナノワイヤ形成のためのSi(あるいはGe)/SiGe選択エッチング、BEOLでCu配線に替わるCoの洗浄など、次世代デバイスに向けた洗浄が特に脚光を浴びた。

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