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2018年度のフォトマスクの出荷量は前年比27%増 - イービームイニシャチブ

2018年09月18日12時35分 / 提供:マイナビニュース

電子ビーム(eBeam)を活用した半導体製造技術の啓もうと促進を専門的に取り上げる業界団体であるイービームイニシャチブ(eBeam Initiative)は9月17日(米国時間)、年次調査結果を発表し、フォトマスクの出荷量が前年比27%増と好調であることを明らかにした。

同調査によるとマスク出荷量は好調なものの、同時にマスクデータの準備時間や平均のマスク描画時間は2017年比で長くなる方向である事などが挙げられており、最先端プロセス向けマスク製造のTATの短縮は進んでいないという結果となった。

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